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NEDO産業技術研究助成事業支援研究の技術説明会

 独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)は、2010年2月26日に産業技術研究助成事業の支援研究に関する技術説明会を開催します。NEDO助成による研究成果の産業界での実用化促進を目的としたもので、今回は「次世代デバイス」「材料」「電池」の3分野9件の研究を選定しました。当日は、研究者と各研究テーマに関心を持つ企業担当者による個別面談形式で行います。今回選定した研究テーマについて、技術の応用、共同研究などを検討される企業担当者様のご参加をお待ちしております。

主催: 独立行政法人 新エネルギー・産業技術開発機構(NEDO)
日時: 2010年2月26日(金)13:00〜18:00
会場: NEDO日比谷オフィス
(東京都千代田区内幸町2−2−3 日比谷国際ビル4F)
お問合せ: 「NEDO産業技術研究助成事業支援研究の技術説明会」事務局
株式会社テクノアソシエーツ(担当:若月)
TEL:  Eメール:
<参加申込み方法>
本技術説明会は事前登録制となっています。
参加を希望される企業担当者様は、次の流れでお申込みください。
  1. 下記の「研究テーマ一覧」の内容を確認
    (※研究テーマ各タイトルにPDFファイルが添付されています)
  2. 「参加申込み」ボタンから参加事前登録、および説明を受けたい研究テーマをチェック
    (※研究テーマの複数選択も可能です)
  3. 事務局より登録確認メールを返信。
    (※詳細スケジュールについては時間調整の上、事務局より追ってご連絡します)
なお、個別説明会の所要時間は、1件当たり1時間程度を予定しております。
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<研究テーマ一覧>

A. 次世代デバイス技術

A−1
高速制御、簡便・低コストを両立する高性能(移動度5 cm2/Vs)有機半導体薄膜トランジスタ
大阪大学・理学研究科・化学専攻・竹谷純一氏

A−2
桁違いに優れた完全透明、低電圧駆動のカーボンナノチューブ薄膜トランジスタ作製技術
東北大学・金属材料研究所・低温電子物性学研究部門・竹延大志氏

A−3
耐環境性能に優れた機能性酸化物薄膜・調光ミラーデバイス
産業技術総合研究所・サステナブルマテリアル研究部門・環境応答機能薄膜研究G・田嶌一樹氏


B. 材料技術

B−1
薄膜化による比誘電率の低下のない高温対応・高容量薄膜コンデンサの開発
東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻・舟窪浩氏

B−2
鉛を一切使用せずに高品質な圧電セラミック結晶粉末を簡便に高速合成する技術
東京大学・新領域創成科学研究科・情報マイクロシステム講座・森田剛氏

B−3
任意のナノコンポジット・ミクロ構造体を創製可能にする静電吸着複合法
久留米工業高等専門学校・材料工学科・武藤浩行氏


C.電池技術

C−1
ナノ粒子の界面イオン伝導を利用した安価でエネルギーロスの少ない水素発生技術
九州大学・稲盛フロンティア研究センター・松本広重氏

C−2
配位空間・へテロ界面の融合制御による低コスト・高機能な二次電池正極材料
産業技術総合研究所・エネルギー技術研究部門・ナノエネルギー材料グループ・大久保將史氏

C−3
排気温度1000℃以上の熱エネルギーを連続的に供給可能な超小型燃焼器の開発と携帯小型電源への応用
岐阜大学・工学部・機械システム工学科・熱エネルギー工学講座・高橋周平氏
受付終了しました。お申込みありがとうございました。